Σε βιομηχανίες όπως η μικροηλεκτρονική, η οπτοηλεκτρονική και η βιοφαρμακευτική,φωτεινή ανόπτηση(BA), αποξείδωση ή παθητικοποίηση (AP),ηλεκτρολυτική στίλβωση (EP)και η δευτερογενής επεξεργασία κενού χρησιμοποιούνται γενικά για συστήματα αγωγών υψηλής καθαρότητας και καθαρά που μεταφέρουν ευαίσθητα ή διαβρωτικά μέσα. Διαλυμένα προϊόντα (VIM+VAR).
Α. Η ηλεκτροστίλβωση (Electro-Polished) αναφέρεται ως EP. Μέσω της ηλεκτροχημικής στίλβωσης, η μορφολογία και η δομή της επιφάνειας μπορούν να βελτιωθούν σημαντικά και η πραγματική επιφάνεια μπορεί να μειωθεί σε κάποιο βαθμό. Η επιφάνεια είναι μια κλειστή, παχιά μεμβράνη οξειδίου του χρωμίου, η ενέργεια είναι κοντά στο κανονικό επίπεδο του κράματος και η ποσότητα του μέσου μειώνεται - συνήθως κατάλληλη για ηλεκτρονική ποιότητααέρια υψηλής καθαρότητας.
Β. Η φωτεινή ανόπτηση (Bright Annealing) αναφέρεται ως BA. Η θερμική επεξεργασία υψηλής θερμοκρασίας σε υδρογόνωση ή κατάσταση κενού, αφενός, εξαλείφει την εσωτερική τάση και αφετέρου, σχηματίζει μια μεμβράνη παθητικοποίησης στην επιφάνεια του σωλήνα για να βελτιώσει τη μορφολογική δομή και να μειώσει το επίπεδο ενέργειας, αλλά δεν αυξάνει την τραχύτητα της επιφάνειας - συνήθως κατάλληλη για GN2, CDA και αδρανή αέρια που δεν χρησιμοποιούνται σε διεργασίες.
Γ. Τα προϊόντα που έχουν υποστεί επεξεργασία με οξύ & παθητικοποίηση/χημική στίλβωση (Pickled & Passivated/Chemically Polished) αναφέρονται ως AP και CP. Η επεξεργασία με οξύ ή η παθητικοποίηση του σωλήνα δεν θα αυξήσει την τραχύτητα της επιφάνειας, αλλά μπορεί να αφαιρέσει τα υπόλοιπα σωματίδια στην επιφάνεια και να μειώσει το επίπεδο ενέργειας, αλλά δεν θα μειώσει τον αριθμό των ενδιάμεσων στρώσεων - συνήθως χρησιμοποιούνται σε σωλήνες βιομηχανικής ποιότητας.
Δ. Σωλήνας καθαρισμού δευτερογενούς διάλυσης κενού Vim (Vacuum Induction Melting) + Var (Vacuum ArcRemelting), που αναφέρεται ως V+V, είναι προϊόν της Sumitomo Metal Company. Έχει υποστεί εκ νέου επεξεργασία υπό συνθήκες τόξου σε κατάσταση κενού, γεγονός που βελτιώνει αποτελεσματικά την αντοχή στη διάβρωση και την τραχύτητα της επιφάνειας. Βαθμός – συνήθως κατάλληλος για εξαιρετικά διαβρωτικά αέρια υψηλής καθαρότητας ηλεκτρονικών ειδών, όπως: BCL3, WF6, CL2, HBr, κ.λπ. 
Ώρα δημοσίευσης: 08 Απριλίου 2024